Информация о станке
- Год выпуска2013
- ПроизводительНанотех
- Дата размещения17.05.2016
- Качество оборудованияБ/У, можно проверить в работе
- Местоположение станка Россия , Санкт-Петербург
Описание
Установка предназначена для ручной и механизированной плазменной сварки постоянным и импульсным током углеродистых и легированных сталей толщиной от 1 до 5 мм., меди и её сплавов толщиной от 1 до 3 мм (на прямой полярности), стыковых и нахлесточных швов из алюминия и его сплавов толщиной от 1 до 8 мм. (на обратной полярности), для плазменной наплавки порошковыми материалами на основе железа, никеля, кобальта и меди; для плазменной закалки (термоупрочнения) постоянным током прямой полярности.
Состав комплекта
1 Плазменный источник питания.
- Номинальное напряжение питающей сети, 50 Гц, В 380 ±15%
- Номинальная потребляемая мощность, кВА 12
- Ток дежурной дуги, А 20
- Диапазон регулирования основного тока, А, ПВ=60% 20 ÷315
ПВ=100% 20 ÷250
- Номинальное рабочее напряжение, В 40
2 Порошковый питатель.
- Производительность, кг/час 0,4- 7
- Грануляция порошков, мкм 40 ÷ 400
- Регулировка расхода:
• диаметр дюзы, высота канала ступенчатая
• частота следования импульсов плавная
- Объем бункера, см³ 1000
3 Блок управления плазменной наплавки и сварки.
- Газовый блок со стабилизаторами давления и регуляторами расходов (ротаметрами) плазмообразующего, защитного, транспортирующего и дозирующего газов;
- Устройство поджига дуги;
- Схема управления, обеспечивающая цикл поджига дуги, регулировку тока, спад – нарастание тока, заварку кратера, защиту плазмотрона при снижении расхода охлаждающей воды и давления газа;
