Информация о станке
- Год выпуска2014
- ПроизводительНанотех
- Дата размещения28.04.2015
- Качество оборудованияновое, не использовалось
- Местоположение станка Россия , Санкт-Петербург
Описание
Установка предназначена для ручной и механизированной плазменной сварки постоянным и импульсным током углеродистых и легированных сталей толщиной от 1 до 5 мм., меди и её сплавов толщиной от 1 до 3 мм. (на прямой полярности), стыковых и нахлесточных швов из алюминия и его сплавов толщиной от 1 до 8 мм. (на обратной полярности), для плазменной наплавки порошковыми материалами на основе железа, никеля, кобальта и меди; для плазменной закалки (термоупрочнения) постоянным током прямой полярности.
Состав комплекта оборудования УПНС-3040
1. Плазменный источник питания.
Номинальное напряжение питающей сети, 50 Гц, В 380 ±15%
Номинальная потребляемая мощность, кВА 12
Ток дежурной дуги, А 20
Диапазон регулирования основного тока, А, ПВ=60% 20 315 ПВ=100% 20÷250
Номинальное рабочее напряжение, В 40
2. Порошковый питатель.
Производительность, кг/час 0,4 , 7
Грануляция порошков, мкм 40 ÷ 400
Регулировка расхода:
• диаметр дюзы, высота канала ступенчатая
• частота следования импульсов плавная
Объем бункера, см³ 1000
3. Блок управления плазменной наплавки и сварки.
Газовый блок со стабилизаторами давления и регуляторами расходов (ротаметрами) плазмообразующего, защитного, транспортирующего и дозирующего газов;
Устройство поджига дуги;
Схема управления, обеспечивающая цикл поджига дуги, регулировку тока, спад – нарастание тока, защиту плазмотрона при снижении расхода охлаждающей воды и давления газа;
Схема управления порошковым питателем;
